(64kB)
Elektroplazmowa modyfikacja powierzchni i osadzanie cienkich powłok (2kB)

Techniki plazmowe znalazły powszechne zastosowanie do modyfikacji powierzchni oraz wytwarzania warstw powierzchniowych w wyniku reakcji zachodzących w fazie gazowej. Uzyskiwane powłoki mogą być złożone z substancji nieorganicznych takich jak np. tlenki czy azotki lub z wielkocząsteczkowych substancji organicznych. W wyniku tych reakcji można również osadzić powłoki diamentowe lub diamentopodobne. Powłoki stosowane w przemyśle powinny spełniać szereg warunków. Powinny trwale przylegać do powierzchni podłoża i posiadać odpowiednią wytrzymałość mechaniczną. Prowadzone badania dotyczą metody PE-CVD - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition wytwarzania cienkich powłok przy zastosowaniu plazmy nierównowagowej pod ciśnieniem atmosferycznym. Badany proces różni się od stosownego na skalę przemysłową tym, że prowadzi się go pod ciśnieniem zbliżonym do atmosferycznego a nie w warunkach znacznie obniżonego ciśnienia. Nie jest przy tym konieczne stosowanie prądów o wielkiej częstotliwości, jak się to powszechnie stosuje, gdyż odpowiednie wyładowanie można uzyskać w zakresie częstotliwości do 5 kHz. W celu wytworzenia tego rodzaju wyładowań konieczna jest przegroda dielektryczna w postaci materiału o dużej rezystywności np. szkło kwarcowe, oddzielająca jedną z elektrod od przestrzeni, w której zachodzi wyładowanie. Powłoki osadzane na krzemie, szkle, metalach oraz na tworzywach sztucznych poddawane są badaniom: składu (XPS i FTIR), grubości (elipsometrycznie), struktury powierzchni (AFM) oraz właściwości trybologicznych.

Folie z tworzyw sztucznych zarówno po modyfikacji powierzchni jak i po osadzeniu powłok poddaje się dodatkowo badaniom na przenikanie wilgoci i gazów jak również w razie potrzeby na badania bakteriologiczne.






góra strony           strona główna          admin